В РФ ученые создали микросхему толщиной в одну молекулу
Учёные НИТУ «МИСиС», по сведениям газеты «Известия», посоветовали новый способ создания двумерных полупроводников с заданными свойствами. Однако, по его словам, до индустриальных образцов электроники еще далеко.
«Если нанести различное количество кислорода на разные части бора нитрида, то можно начать управление его „проводимость“». Они удачно провели эксперимент по контролируемому созданию материала на основе частично окисленного оксида бора, сказали Известия.
Пока рано говорить о промышленном производстве микросхем в одну молекулу толщиной. Его свойства позволяют контролируемым способом изменять ширину так называемой запрещённой зоны путём регулирования концентрации кислорода, сообщил он. Образец имеет запрещённые зоны, которые определяют, является ли материал проводником, диэлектриком либо полупроводником.
Он также обозначил, что при помощи данного метода можно быстро, просто и недорого получить материал с контролируемой нелегальной зоной.
Ежели нанести отличающееся количество кислорода на разнообразные части образца нитрида бора, можно начать управлять его проводимостью. Позже его можно будет использовать в таких областях науки и техники, как фотовольтаика, оптоэлектроника, хранение энергии. В дальнейшем ученые считают, она даст возможность создавать процессоры, которые будут в тысячу раз меньше существующих.
